而最终的分析结果也果然不出他们所料，在降低了98%的产气量后，他们得到的电路保护膜，表面非常光滑平整，没有出现任何坍塌变形！

“膜厚正常，套刻精度正常！”

听到这个结果，所有人顿时都激动的看着吴利鸿。

事实上实验进行到了这一步，已经基本可以肯定他们的EUV光刻胶，已经达到了13.5纳米的制程标准。

因为他们苏省微电子的所有精力，都用来研发光刻胶了，对多重曝光等压缩制程的工艺，没有太多的研究，所以13.5纳米只是他们研究所的最小制程工艺。

而这款光刻胶具体的最小制程，得找申城硅产业或者立昂微来做进一步的验证，尤其是最早拿到EUV光刻机的申城硅产业，经过这几个月的摸索调试，他们已经把制程工艺推到了5nm。

不过为了稳妥起见，吴利鸿还是按捺住激动的心情，对大家开口道：“立即准备蚀刻实验验证，确认最后的环节没问题再送到申城硅产业去。”

“明白！”

研究员们听到后，顿时又开始忙碌了起来。

本来按照他们之前的实验流程，实验到了这一步基本就是失败了，这次其实根本就没有做好进入蚀刻环节的准备。

但面对这个意想不到的巨大惊喜，大家却没有一丝‘临时加班’的怨言，一个个都吭哧吭哧地开始重新准备实验。

两个小时后，最终结果终于出炉了。

他们研发的光刻胶，成功地经受干法刻蚀中高能粒子的洗礼，顺利完成了保护硅片基底的任务，芯片良品率高达98%！

在吴利鸿院士的带领下，苏省大学微电子研究员，终于成功研发出了一款能胜任13.5nm制程的国产顶级EUV光刻胶！

而且这个13.5纳米制程，只是目前的初步实验结论。

从他们这次得到的套刻精度来看，这款光刻胶实际上有相当大的可能，可以胜任5纳米制程芯片的制造！

吴利鸿也非常沉得住气，没有选择立即将实验结果上报上去，而是让研究员们按照上次的配方，重新调配了一批光刻胶。

然后重复做了足足十次实验，确认每次的结果误差都在可接受的范围内后，才带着光刻胶和团队的主要技术人员飞往魔都，来到了申城硅产业集团。

此时的申城硅产业的集团总裁陈云明恰好在和华威的余总和何总，讨论华威P6的芯片代工问题。

而双方讨论的要点，就是产量和成本的问题。

华威本着量大从优的道理，想要直接订购两千万枚麒零9000。

但申城硅产业现在，其实也就只有一台秦光一号。

按照秦光一号每小时180片的硅片吞吐量，以及制造出的每片晶圆可以切割出500枚芯片来算，一台光刻机每天的产能应该有216万枚。

但实际上，光刻机的吞吐量不代表晶圆的制造速度，而是要根据不同芯片的设计，进行多次曝光和蚀刻。